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반도체 제조에 핵심적인 가스들이 필요한데, 이 가스들은 산소, 아르곤, 헬륨, 수소, 이산화탄소 등 다양하다. 또한 특수한 용도를 가진 가스로는 암모니아, 실란, 염화수소, 삼불화질소, 아산화질소 등이 있다. 반도체 공정이 더욱 미세화되면서, 순도 높은 가스의 수요가 증가하고 있다고 한다. 최첨단 공정의 확대로 인해 향후 반도체 공정에 필요한 특수 가스의 수요가 증가할 것으로 전망되고 있다.

반도체 업계에 따르면, 산업용 가스 제조 시설의 75%가 동아시아 지역에 위치해 있다고 한다. 산업용 가스 공급업체로는 독일의 머크, 네덜란드의 린데, 프랑스의 에어리퀴드, 일본의 쇼와덴코, 중국의 화터뿐만 아니라 한국의 원익과 SK머티리얼즈 등이 있다고 전해졌다.

반도체 공정에서 산업용 특수 가스가 없으면 칩을 제조할 수 없다. 예를 들어, C4F6(육불화부타디엔)은 반도체 에칭(식각) 공정에 사용되는 가스로, 웨이퍼 위에 회로 패턴을 그린 후 불필요한 부분을 제거할 때 활용된다. C4F6 공급이 6000만~1억 달러 규모로 줄게 되면, 반도체 기업은 100억~180억 달러의 손실을 입을 것으로 분석되고 있다. 반도체 제작에는 노광 공정에 사용되는 네온 가스와 냉각재로서 필요한 헬륨 가스도 꼭 필요한 재료로 여겨진다.

최근 가스의 핵심 성분이나 가스 생산국에서 지정학적 리스크가 발생하면서 시장의 불안감이 커지고 있다. 러시아와 우크라이나의 전쟁이 장기화되고 있어 이는 대표적인 사례이다. 우크라이나는 고순도 네온의 90%를 공급하고 있으며, 러시아는 헬륨과 C4F6 가스의 주요 공급원이다.

양국 간의 전쟁이 장기화되면서 공급난이 확산되어, 국내 기업들은 중국에 의존도가 높아졌다. 관세청에 따르면, 네온의 중국 수입 의존도는 2022년에 66.6%에서 증가할 것으로 예상되는데...

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