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한국 켐트로닉스, EUV 반도체 노광용 포토레지스트 필수 소재 국산화 성공

한국 중견기업인 켐트로닉스가 EUV(극자외선) 반도체 노광 공정에 필수적인 포토레지스트 소재의 국산화에 성공하고 주목받고 있다. 김응수 켐트로닉스 대표는 "포토레지스트 구성재료인 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 아세트산(PGMEA)을 순도 99.999%로 시생산하는 데 성공했다"고 밝혔다. 이를 통해 켐트로닉스는 2024년부터 본격적인 양산을 시작할 예정이다.

PGMEA는 반도체 제조 공정에서 사용되는 주요한 용제 소재로, 노광 공정 중 감광 반응이 일어나지 않은 부분을 청소하는 역할을 한다. 기존에는 켐트로닉스가 일본과 대만 등에서 PGMEA를 수입하고 정제하여 기업들에게 공급하는 방식을 취해왔다. 하지만 2019년 일본의 반도체 소재 수출 규제로 인해 국산화에 어려움을 겪었던 포토레지스트는 이제 켐트로닉스의 기술력으로 국내에서 생산 가능해졌다.

켐트로닉스는 지난해 240억원을 투자하여 1만t의 PGMEA 생산능력을 확보하였으며, 올해에는 추가로 170억원을 투자해 생산능력을 2만5000t로 확대할 계획이다. 이를 통해 켐트로닉스는 기존에 일본에 의존하던 국내 반도체 산업의 소재 수입에 대한 의존도를 낮출 수 있게 될 것으로 기대된다.

PGMEA 국산화를 통해 김 대표는 "금속성 잔류물로 인한 불량을 크게 줄일 수 있다"고 밝혔다. 또한, 2022년에는 9262억원이었던 PGMEA 시장이 2024년에는 1조172억원대로 확대될 것으로 전망되고 있다. 이를 통해 국내 반도체 소재 산업의 경쟁력 강화와 수입 의존도 감소에 큰 도움을 줄 것으로 기대된다.

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