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켐트로닉스는 국내 기업의 수출규제로 인해 어려움을 겪고 있던 포토레지스트(PR) 용제(솔벤트)를 해결하기 위한 대안을 개발하였다고 밝혔다. 일본의 수출규제로 인해 PR 솔벤트의 수입이 어려워진 상황에서, 켐트로닉스는 해당 용제를 국내에서 생산하는 방법을 찾았다. 그 결과, 포토레지스트 구성재로 사용되는 프로필렌 글리콜 메틸 에테르 아세트산(PGMEA)의 순도를 99.999%(5N)로 생산하는 데에 성공하였다.

PGMEA는 반도체 제조 공정에서 사용되는 용제로, 감광 반응이 일어나지 않은 부분에 묻은 감광물질을 제거하는 역할을 한다. 그 동안 켐트로닉스는 일본과 대만, 중국 등에서 PGMEA를 수입한 후 정제 작업을 거쳐 기업들에게 공급하고 있었다. 하지만 일본의 수출규제로 인해 국산화가 필요해지게 되었고, 켐트로닉스는 4년여의 개발 노하우를 바탕으로 5N급 PGMEA를 국내에서 양산할 수 있게 되었다.

김응수 켐트로닉스 대표는 5N급 순도의 PGMEA는 노광 때 발생하는 불량을 현저히 줄일 수 있으며, 친환경적인 특성도 갖추고 있다고 설명했다. 켐트로닉스는 작년부터 대량생산을 위해 240억원을 투자하여 연 1만t의 생산능력을 확보하였으며, 올해 추가로 170억원을 투자해 생산능력을 2만5000t로 확대할 예정이다.

김 대표는 "켐트로닉스의 국산 PGMEA 양산은 국내 반도체 산업에 대한 의존도를 낮추고 국가 안보 측면에서도 큰 이점을 가져다 줄 것"이라며, 앞으로 본격 양산을 위한 최종 고객사의 품질 승인 작업을 진행하고 2024년 상반기부터 양산에 들어갈 예정이라고 밝혔다.

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