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캐논, ASML에 도전…나노 임프린트로 고급 반도체 노광 장비 대체

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창업뉴스


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작성일 23-11-07 00:53

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일본의 광학장비 기업 캐논이 네덜란드의 ASML에 도전장을 내며 주목을 받고 있다. ASML은 반도체 장비업계에서 슈퍼로 불리는 기업으로, 수천억원에 달하는 최고급 반도체 노광 장비를 제공하고 있다. 그러나 캐논은 이를 나노 임프린트 기술로 저가로 대체할 계획을 가지고 있어 ASML의 자존심을 꺾을 수도 있다고 전망된다.

블룸버그통신은 6일 캐논이 ASML보다 한 자릿수 낮은 가격에 나노 임프린트 기술 기반의 노광 장비를 공급할 예정임을 보도했다. 이를 통해 현재 글로벌 반도체 파운드리업체인 TSMC와 삼성전자 등이 독점 생산하는 고급칩을 소규모 업체들이 생산할 수 있을 전망이다.

캐논의 최고경영자인 미타라이 후지오는 캐논 제품의 가격은 ASML의 최고급 극자외선(EUV) 공정 장비보다 한 자릿수 낮을 것이라고 밝혔다. 최종 가격은 아직 결정되지 않았지만, 이러한 발표는 캐논의 대중 수출 증가에 대한 시장의 기대감을 불러일으키고 있다. 캐논의 주가는 연초 이후 약 30% 상승했으며, ASML을 추월하려는 경쟁사인 니콘의 주가도 26% 이상 상승한 것으로 알려졌다.

ASML은 세계 최첨단 칩 제조장비인 EUV 노광 툴을 공급하는 유일한 업체로 알려져 있다. ASML의 EUV 공정은 실리콘 1mm²마다 수백만 개의 트랜지스터를 집적시킬 수 있어 가장 빠르고 에너지 효율적인 칩을 대량 생산하는 데 필수적이다. 그러나 미국이 중국으로의 기술 유출을 차단하기 위해 네덜란드 등 동맹국들에 압력을 가하면서 중국의 ASML EUV 장비 수입이 차단되는 상황이 발생하고 있다.

나노 임프린트 기술을 활용하여 저가의 노광 장비를 제공하는 캐논의 도전은 현재 시장에서 많은 관심을 받고 있다. 이로 인해 소규모 업체들이 고급칩 생산에 참여할 수 있는 기회가 열릴 것으로 예상된다. 캐논과 ASML 간의 경쟁은 시장에서 어떠한 결과를 가져올지 기대되는 상황이다.
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