네덜란드 ASML, 하이 NA EUV 장비 출하로 최첨단 반도체 시장 개척
ASML, 하이 NA EUV 장비 출하…삼성전자와 공동 연구개발 추진
네덜란드의 ASML이 최첨단 반도체 시장의 게임체인저로 불리는 하이 NA EUV(극자외선) 노광장비의 출하를 시작했다. 이 첫 번째 고객사는 미국의 인텔이다. 이에 삼성전자도 ASML과의 1조원 규모의 공동 연구개발(R&D)을 통해 이 장비의 활용도를 극대화할 계획이다.
ASML은 22일 "하이 NA EUV 노광 시스템 첫 번째 제품을 인텔에 출하했다"고 발표했다. 하이 NA EUV 장비는 ASML의 최신 제품으로, 노광 능력을 높였다. 가격은 대당 3억달러(약 3900억원)를 초과한다. 이 장비는 2나노미터 이하의 초미세 파운드리(반도체 수탁 생산) 공정에서의 경쟁력을 좌우할 것으로 전망되고 있다. 2나노미터는 회로 폭을 의미하는데, 회로 폭이 좁을수록 초소형·저전력·고성능 칩을 만드는 데 유리하다. 따라서 초미세공정에서는 빛의 파장이 짧은 EUV 노광장비가 필수적이다.
주요 반도체 기업들은 2025년부터 2나노미터 이하 공정에서의 칩 양산을 계획하고 있다. 이로 인해 공정 개발 경쟁이 본격화하면서 기존 EUV 장비의 성능을 개선한 하이 NA EUV 장비에 대한 수요가 커지고 있다. 하이 NA EUV 장비는 기존 장비와 달리 렌즈 개구 수(빛을 모으는 능력 단위)를 0.55로 키워 집광 능력을 높였다. 따라서 기존 장비보다 더 선명하고 얇은 회로를 그릴 수 있다.
하이 NA EUV 장비의 연간 생산량은 약 10대로 알려져 있다. 이에 삼성전자, TSMC, SK하이닉스 등이 이 장비를 확보하기 위한 경쟁을 벌이고 있다. 이를 위해 윤석열 대통령, 이재용 삼성전자 회장, 최태원 SK그룹 회장 등이 이달 중순 ASML 본사를 방문하여 하이 NA EUV 장비를 살펴보고 협력 관계를 강화하기 위한 노력을 기울일 예정이다.
네덜란드의 ASML이 최첨단 반도체 시장의 게임체인저로 불리는 하이 NA EUV(극자외선) 노광장비의 출하를 시작했다. 이 첫 번째 고객사는 미국의 인텔이다. 이에 삼성전자도 ASML과의 1조원 규모의 공동 연구개발(R&D)을 통해 이 장비의 활용도를 극대화할 계획이다.
ASML은 22일 "하이 NA EUV 노광 시스템 첫 번째 제품을 인텔에 출하했다"고 발표했다. 하이 NA EUV 장비는 ASML의 최신 제품으로, 노광 능력을 높였다. 가격은 대당 3억달러(약 3900억원)를 초과한다. 이 장비는 2나노미터 이하의 초미세 파운드리(반도체 수탁 생산) 공정에서의 경쟁력을 좌우할 것으로 전망되고 있다. 2나노미터는 회로 폭을 의미하는데, 회로 폭이 좁을수록 초소형·저전력·고성능 칩을 만드는 데 유리하다. 따라서 초미세공정에서는 빛의 파장이 짧은 EUV 노광장비가 필수적이다.
주요 반도체 기업들은 2025년부터 2나노미터 이하 공정에서의 칩 양산을 계획하고 있다. 이로 인해 공정 개발 경쟁이 본격화하면서 기존 EUV 장비의 성능을 개선한 하이 NA EUV 장비에 대한 수요가 커지고 있다. 하이 NA EUV 장비는 기존 장비와 달리 렌즈 개구 수(빛을 모으는 능력 단위)를 0.55로 키워 집광 능력을 높였다. 따라서 기존 장비보다 더 선명하고 얇은 회로를 그릴 수 있다.
하이 NA EUV 장비의 연간 생산량은 약 10대로 알려져 있다. 이에 삼성전자, TSMC, SK하이닉스 등이 이 장비를 확보하기 위한 경쟁을 벌이고 있다. 이를 위해 윤석열 대통령, 이재용 삼성전자 회장, 최태원 SK그룹 회장 등이 이달 중순 ASML 본사를 방문하여 하이 NA EUV 장비를 살펴보고 협력 관계를 강화하기 위한 노력을 기울일 예정이다.
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이동*
정말 최고예요!
홍한*
이런 소식 정말 좋아요.
김한*
정말 대책없네요.
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